鉬爐 101009-00是一種專用于高純材料燒結、退火、晶體生長及金屬熱處理的電爐,廣泛應用于硬質合金、稀土永磁、半導體、航空航天等對氧含量和溫度均勻性要求高的領域。其工作溫度可達1800–2200℃,在高真空(≤10Pa)或惰性氣氛下運行,確保材料不氧化、不污染。
鉬爐 101009-00的良好性能源于多個耐高溫、高真空兼容的核心部件協同運作。

一、鉬絲加熱元件
采用高純度(≥99.95%)鉬絲繞制成螺旋或籠式結構,具有熔點高(2620℃)、蒸氣壓低、高溫強度好等特性。鉬絲在真空環境中電阻穩定,可長期工作于2000℃以上,且不釋放雜質,保障爐內潔凈度。其布局經熱場模擬優化,確保溫區均勻性(±5℃以內)。
二、水冷不銹鋼爐殼
爐體采用雙層304或316L不銹鋼焊接結構,夾層通循環冷卻水,有效隔離內部高溫輻射,使外壁溫度低于50℃。配備KF或CF標準法蘭接口,集成真空規管、電極引線、熱電偶通道等,整體漏率≤1×10Pa·m/s,滿足高真空密封要求。
三、隔熱屏系統
由多層鉬片或鉬-鉭復合屏組成,利用低發射率表面反射熱輻射,大幅減少熱量損失。相比傳統陶瓷纖維,金屬隔熱屏無揮發物,避免污染樣品,同時具備優異抗熱震性,適用于頻繁升降溫工況。
四、真空系統
通常由機械泵(預抽)+擴散泵或分子泵(高真空)組成,極限真空可達5×10Pa。部分機型配備低溫冷阱或離子泵,進一步降低殘余氣體分壓,尤其適用于活性金屬(如鈦、鋯)處理。
五、溫控與測溫系統
采用鎢錸熱電偶(WRe5/26)直接插入溫區,耐溫達2400℃;配合智能PID控制器,實現升溫速率、保溫時間、降溫曲線的程序化管理。部分設備集成PLC與HMI觸摸屏,支持數據記錄、故障報警及遠程監控。